破解

经过国家重大科技基础设施研发团队历时五年的顽强拼搏，长期制约我国极紫外光刻机核心光源技术瓶颈终于被成功破解。

jīng guò guó jiā zhòng dà kē jì jī chǔ shè shī yán fā tuán duì lì shí wǔ nián de wán qiáng pīn bó, cháng qī zhì yuē wǒ guó jí zǐ wài guāng kè jī hé xīn guāng yuán jì shù píng jǐng zhōng yú bèi chéng gōng pò jiě.

Après cinq années d'efforts acharnés de la part de l'équipe nationale de recherche et de développement des principales infrastructures scientifiques et technologiques, le goulot d'étranglement de la technologie de base des sources lumineuses qui a longtemps limité les machines de lithographie ultraviolette extrême de Chine a finalement été surmonté avec succès.