真空

在进行高精度半导体晶圆光刻制造时，整个核心曝光反应腔体内必须保持绝对洁净的高真空状态。

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高精度の半導体ウェーハリソグラフィーを製造する場合、コア露光反応チャンバー全体が完全にクリーンな高真空状態を維持する必要があります。